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Wafer级TGV多层RDL互联转接板

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基于玻璃通孔(TGV)3.0技术,采用先进多重布线层设计,实现高密度信号扇出与多芯片高效互联。产品具备低寄生效应、优异电气性能与良好散热能力,结构稳定、可靠性高,适用于高算力芯片封装及高速数据传输场景。



Wafer级TGV多层RDL互联转接板 03.jpg



Wafer结构图.png




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· 具备低寄生效应、优异电气性能与良好散热能力

· 具备高带宽、低损耗传输特性,满足高速信号互联需求

· 采用先进重布线层设计,实现高密度信号扇出与多芯片高效互联




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高深宽比填充效果


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金属填充效果


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50μm通孔实心填充


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60μm通孔实心填充                                               锥形孔填充


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                                                                                              直孔填充                                                X-Ray体视图显示完全填充                                        




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核心参数指标 01.png



核心参数指标 02.png

TGV


核心参数指标 03.png

RDL


· 产品为面向行业应用的定制化开发器件,各项性能参数将根据客户具体需求进行专项设计与匹配。



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                                                                   人工智能芯片                                                     半导体与先进封装



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                                                                   高性能计算 (HPC)                                                  图形处理(GPU)



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                                                                    大数据储存                                                                自动驾驶



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